Phân tích huỳnh quang tia X (X-Ray Fluorescence)

by tudienkhoahoc

Phân tích huỳnh quang tia X (XRF) là một kỹ thuật phân tích không phá hủy được sử dụng để xác định thành phần nguyên tố của vật liệu. Kỹ thuật này dựa trên nguyên lý phát xạ tia X đặc trưng từ một mẫu khi nó được chiếu xạ bởi nguồn tia X năng lượng cao.

Nguyên lý hoạt động

Quá trình phân tích XRF bao gồm ba giai đoạn chính:

  • Kích thích: Một chùm tia X năng lượng cao (tia X sơ cấp) từ một ống tia X hoặc nguồn phóng xạ được hướng vào mẫu. Các photon tia X này có đủ năng lượng để tương tác với các electron ở lớp vỏ bên trong của nguyên tử trong mẫu, làm bật các electron này ra khỏi nguyên tử. Quá trình này được gọi là kích thích, và tạo ra các “lỗ trống” electron ở lớp vỏ trong.
  • Phát xạ huỳnh quang: Khi một electron ở lớp vỏ bên trong bị bật ra, nó tạo ra một “lỗ trống”. Để lấp đầy lỗ trống này, một electron từ lớp vỏ bên ngoài (có năng lượng cao hơn) sẽ chuyển xuống lớp vỏ bên trong. Sự chuyển dịch electron từ mức năng lượng cao xuống mức năng lượng thấp hơn này sẽ giải phóng năng lượng dư thừa dưới dạng một photon tia X thứ cấp, được gọi là tia X huỳnh quang. Năng lượng của photon tia X huỳnh quang này là đặc trưng cho nguyên tố và sự chuyển dịch electron cụ thể (ví dụ: chuyển dịch từ lớp L sang lớp K, K sang L, …). Mỗi nguyên tố có một “dấu vân tay” năng lượng tia X huỳnh quang riêng biệt.
  • Phát hiện và phân tích: Tia X huỳnh quang phát ra từ mẫu được thu thập bởi một detector. Detector này có khả năng đo cả năng lượng và cường độ (số lượng photon) của các tia X huỳnh quang. Năng lượng của photon tia X xác định nguyên tố nào phát ra nó, trong khi cường độ của tín hiệu (số lượng photon có cùng năng lượng) tỷ lệ thuận với nồng độ của nguyên tố đó trong mẫu. Dữ liệu này sau đó được phần mềm xử lý để tạo ra một phổ XRF, hiển thị các đỉnh năng lượng tương ứng với các nguyên tố có mặt trong mẫu và nồng độ tương đối của chúng.
  • Công thức liên quan

    Năng lượng của photon tia X huỳnh quang được xác định bởi định luật Moseley (một cách gần đúng):

    <p style=”text-align: center;”>
    $E = h\nu = R_\infty (Z – \sigma)^2 (\frac{1}{n_1^2} – \frac{1}{n_2^2})$

    Trong đó:

    • $E$ là năng lượng của photon tia X.
    • $h$ là hằng số Planck.
    • $\nu$ là tần số của photon tia X.
    • $R_\infty$ là hằng số Rydberg.
    • $Z$ là số hiệu nguyên tử của nguyên tố.
    • $\sigma$ là hằng số che chắn (thể hiện sự chắn của các electron khác trong nguyên tử).
    • $n_1$ và $n_2$ là các số lượng tử chính của các lớp vỏ electron liên quan đến sự chuyển dịch ($n_1 &lt; n_2$, tương ứng với lớp vỏ trong và lớp vỏ ngoài).

    Công thức Moseley cho thấy mối quan hệ giữa năng lượng tia X huỳnh quang ($E$) và số hiệu nguyên tử ($Z$) của nguyên tố. Điều này giải thích tại sao mỗi nguyên tố có một “dấu vân tay” tia X huỳnh quang đặc trưng.

    Ứng dụng

    XRF có nhiều ứng dụng rộng rãi trong nhiều lĩnh vực khác nhau, bao gồm:

    • Phân tích thành phần nguyên tố: Xác định thành phần nguyên tố của kim loại, hợp kim, khoáng sản, đất, đá, chất lỏng, và các vật liệu khác.
    • Kiểm soát chất lượng: Kiểm tra thành phần của nguyên liệu thô và sản phẩm cuối cùng trong các ngành công nghiệp như luyện kim, xi măng, và sản xuất polymer.
    • Nghiên cứu môi trường: Phân tích ô nhiễm đất, nước và không khí, xác định hàm lượng các kim loại nặng và các nguyên tố độc hại khác.
    • Phân tích khảo cổ và nghệ thuật: Xác định thành phần của các cổ vật và tác phẩm nghệ thuật, giúp xác định niên đại, nguồn gốc và kỹ thuật chế tác.
    • Phân tích thực phẩm và nông nghiệp: Xác định hàm lượng kim loại vi lượng, các nguyên tố dinh dưỡng và các chất độc hại trong thực phẩm, thức ăn chăn nuôi và phân bón.
    • Khoa học vật liệu: Nghiên cứu cấu trúc và tính chất của vật liệu mới.
    • Y tế: Trong một số trường hợp, XRF được sử dụng để phân tích các mẫu sinh học.

    Ưu điểm của XRF

    • Không phá hủy mẫu: Mẫu vật không bị hư hại trong quá trình phân tích, cho phép bảo tồn các mẫu vật quý hiếm.
    • Phân tích nhanh chóng: Thời gian phân tích thường chỉ mất vài giây đến vài phút.
    • Đơn giản và dễ sử dụng: Thiết bị XRF hiện đại thường được tự động hóa và có giao diện người dùng thân thiện.
    • Có thể phân tích nhiều loại mẫu khác nhau: XRF có thể phân tích mẫu rắn, lỏng, bột và màng mỏng.
    • Độ nhạy cao: Có thể phát hiện các nguyên tố có nồng độ thấp (từ ppm đến vài phần trăm).
    • Đa nguyên tố: Có thể đồng thời xác định nhiều nguyên tố trong một lần đo.

    Nhược điểm của XRF

    • Độ nhạy kém hơn với các nguyên tố nhẹ: XRF gặp khó khăn trong việc phân tích các nguyên tố nhẹ (thường là các nguyên tố có số hiệu nguyên tử Z &lt; 11, như Na, Mg, Al, Si…), do năng lượng tia X huỳnh quang của các nguyên tố này thấp, dễ bị hấp thụ bởi không khí và chính mẫu vật.
    • Giới hạn phát hiện (LOD): Mặc dù XRF có thể phát hiện nhiều nguyên tố, nhưng giới hạn phát hiện của nó thường cao hơn so với một số kỹ thuật phân tích khác như ICP-MS (Phổ khối lượng plasma cảm ứng).
    • Ảnh hưởng của nền mẫu (matrix effects): Kết quả phân tích XRF có thể bị ảnh hưởng bởi thành phần hóa học tổng thể của mẫu (hiệu ứng nền mẫu). Các nguyên tố khác trong mẫu có thể hấp thụ hoặc tăng cường tia X huỳnh quang của nguyên tố cần phân tích, dẫn đến sai số trong kết quả.
    • Độ sâu phân tích hạn chế: Tia X thường chỉ xuyên sâu vào mẫu vật một khoảng vài micromet đến vài milimet, tùy thuộc vào năng lượng tia X và thành phần mẫu. Do đó, XRF chủ yếu phân tích thành phần bề mặt của mẫu.
    • Khó khăn trong phân tích mẫu không đồng nhất: Nếu mẫu không đồng nhất về thành phần, kết quả XRF có thể không đại diện cho toàn bộ mẫu.
    • Yêu cầu về chuẩn bị mẫu: Trong một số trường hợp, cần phải chuẩn bị mẫu cẩn thận (ví dụ: nghiền mịn, ép viên) để đảm bảo kết quả chính xác.

    Tóm lại, XRF là một kỹ thuật phân tích mạnh mẽ và linh hoạt với nhiều ứng dụng trong nhiều lĩnh vực khác nhau. Nó cung cấp một phương pháp nhanh chóng và không phá hủy để xác định thành phần nguyên tố của vật liệu. Tuy nhiên, người sử dụng cần hiểu rõ cả ưu điểm và nhược điểm của kỹ thuật này để áp dụng và diễn giải kết quả một cách phù hợp.

    Các loại thiết bị XRF

    Có hai loại thiết bị XRF chính, được phân loại dựa trên cách chúng phân tách tia X huỳnh quang:

    • XRF tán sắc năng lượng (EDXRF – Energy Dispersive X-Ray Fluorescence): EDXRF sử dụng một detector bán dẫn (thường là detector Si(Li) hoặc SDD) để phát hiện đồng thời tất cả các tia X huỳnh quang phát ra từ mẫu. Detector này đo trực tiếp năng lượng của từng photon tia X. Phần mềm sau đó sẽ phân loại các photon theo năng lượng của chúng, tạo ra một phổ năng lượng. EDXRF thường đơn giản, nhỏ gọn, và có chi phí thấp hơn so với WDXRF. Nó thích hợp cho các ứng dụng phân tích định tính, bán định lượng, và sàng lọc nhanh.
    • XRF tán sắc bước sóng (WDXRF – Wavelength Dispersive X-Ray Fluorescence): WDXRF sử dụng một tinh thể phân tích (crystal analyzer) để phân tách tia X huỳnh quang theo bước sóng của chúng, dựa trên nguyên lý nhiễu xạ Bragg ($n\lambda = 2d\sin\theta$, trong đó $n$ là bậc nhiễu xạ, $\lambda$ là bước sóng, $d$ là khoảng cách giữa các mặt phẳng tinh thể, và $\theta$ là góc nhiễu xạ). Một detector (thường là detector đếm tỷ lệ hoặc detector nhấp nháy) sau đó được đặt ở một góc cụ thể để thu nhận tia X có bước sóng নির্দিষ্ট. Bằng cách quét góc của tinh thể và detector, có thể ghi lại cường độ của tia X ở các bước sóng khác nhau. WDXRF cung cấp độ phân giải năng lượng cao hơn, độ nhạy tốt hơn và giới hạn phát hiện thấp hơn so với EDXRF. Nó thường được sử dụng cho các ứng dụng phân tích định lượng chính xác.

    Chuẩn bị mẫu

    Việc chuẩn bị mẫu cho phân tích XRF có thể rất đa dạng tùy thuộc vào loại mẫu, thiết bị được sử dụng, và mục tiêu phân tích. Một số phương pháp chuẩn bị mẫu phổ biến bao gồm:

    • Mẫu rắn: Mẫu rắn có thể được phân tích trực tiếp nếu chúng có bề mặt phẳng và đủ lớn. Tuy nhiên, thường thì mẫu rắn sẽ được nghiền thành bột mịn (để tăng tính đồng nhất) và sau đó ép thành viên (pellet) để có bề mặt phân tích tối ưu.
    • Mẫu lỏng: Mẫu lỏng có thể được phân tích trực tiếp trong cốc mẫu (sample cup) chuyên dụng, thường được làm bằng vật liệu ít hấp thụ tia X (ví dụ: polypropylene). Một cách khác là làm bay hơi dung môi để thu được cặn, sau đó phân tích cặn này.
    • Mẫu bột: Mẫu bột thường được ép thành viên nén hoặc trộn với chất kết dính để tạo thành viên.
    • Mẫu màng mỏng: Mẫu màng mỏng (thin film) có thể được phân tích trực tiếp trên đế (substrate).
    • Mẫu lọc: Các hạt bụi hoặc sol khí trong không khí có thể được thu thập trên giấy lọc và phân tích trực tiếp.

    Hiệu ứng nền và hiệu chỉnh

    Kết quả phân tích XRF có thể bị ảnh hưởng bởi một số hiệu ứng nền (matrix effects), bao gồm:

    • Hiệu ứng hấp thụ (Absorption): Tia X huỳnh quang phát ra từ một nguyên tố có thể bị hấp thụ bởi các nguyên tố khác trong mẫu. Mức độ hấp thụ phụ thuộc vào năng lượng tia X và thành phần của mẫu.
    • Hiệu ứng tăng cường (Enhancement): Tia X huỳnh quang từ một nguyên tố có thể kích thích sự phát xạ tia X huỳnh quang từ một nguyên tố khác, làm tăng cường độ tín hiệu của nguyên tố thứ hai.
    • Tán xạ Rayleigh (Rayleigh scattering): Là sự tán xạ đàn hồi của tia X sơ cấp bởi các nguyên tử trong mẫu, không làm thay đổi năng lượng của tia X.
    • Tán xạ Compton (Compton scattering): Là sự tán xạ không đàn hồi của tia X sơ cấp bởi các electron trong mẫu, làm giảm năng lượng của tia X.

    Để hiệu chỉnh các hiệu ứng nền này, các phương pháp hiệu chỉnh khác nhau được sử dụng, bao gồm:

    • Hiệu chỉnh bằng mẫu chuẩn: Sử dụng các mẫu chuẩn có thành phần tương tự như mẫu phân tích để hiệu chỉnh.
    • Hiệu chỉnh theo tham số cơ bản (Fundamental Parameters – FP): Sử dụng các phương trình vật lý mô tả quá trình tương tác giữa tia X và vật chất để tính toán hiệu ứng nền.
    • Hiệu chỉnh theo hệ số ảnh hưởng (Influence Coefficients): Sử dụng các hệ số thực nghiệm để hiệu chỉnh ảnh hưởng của các nguyên tố khác lên nguyên tố cần phân tích.
    • Hiệu chỉnh bằng phương pháp pha loãng: Pha loãng mẫu với một chất trơ để giảm thiểu hiệu ứng nền.

    Phân tích định lượng

    Để phân tích định lượng, cần phải thiết lập đường chuẩn bằng cách sử dụng các mẫu chuẩn có nồng độ đã biết của các nguyên tố cần phân tích. Đường chuẩn biểu diễn mối quan hệ giữa cường độ tín hiệu XRF (thường là số đếm) và nồng độ của nguyên tố. Nồng độ của nguyên tố trong mẫu chưa biết sau đó được xác định bằng cách nội suy hoặc ngoại suy từ đường chuẩn, dựa trên cường độ tín hiệu đo được.

    Giới hạn phát hiện

    Giới hạn phát hiện (Limit of Detection – LOD) của XRF là nồng độ thấp nhất của một nguyên tố có thể được phát hiện một cách đáng tin cậy (thường được định nghĩa là nồng độ mà tại đó tín hiệu lớn hơn 3 lần độ lệch chuẩn của nền). LOD phụ thuộc vào nhiều yếu tố, bao gồm:

    • Nguyên tố cần phân tích: Các nguyên tố khác nhau có LOD khác nhau.
    • Thiết bị XRF: Loại ống phát tia X, detector, và các thông số đo.
    • Nền mẫu (matrix): Thành phần của mẫu ảnh hưởng đến LOD.
    • Thời gian đo: Thời gian đo càng dài thì LOD càng thấp.
    • Điều kiện đo: Điện áp, dòng điện của ống phát tia X, bộ lọc, và môi trường đo (chân không, không khí, heli…).
    Title

    Phân tích huỳnh quang tia X (XRF) là một kỹ thuật phân tích nguyên tố mạnh mẽ, linh hoạt và không phá hủy. Nó dựa trên nguyên lý phát xạ tia X đặc trưng từ một mẫu khi nó được chiếu xạ bởi nguồn tia X năng lượng cao. Khi một electron ở lớp vỏ bên trong bị đẩy ra bởi tia X tới, một electron từ lớp vỏ bên ngoài sẽ lấp đầy chỗ trống, phát ra tia X huỳnh quang có năng lượng đặc trưng cho nguyên tố đó. Năng lượng này tuân theo định luật Moseley: $E = h\nu = R_\infty (Z – \sigma)^2 (\frac{1}{n_1^2} – \frac{1}{n_2^2})$, cho phép xác định nguyên tố dựa trên năng lượng tia X phát ra.

    Có hai loại thiết bị XRF chính: tán sắc năng lượng (EDXRF) và tán sắc bước sóng (WDXRF). EDXRF đo năng lượng trực tiếp của tia X huỳnh quang, trong khi WDXRF phân tách tia X dựa trên bước sóng trước khi đo cường độ. WDXRF thường cho độ phân giải và độ chính xác cao hơn, trong khi EDXRF có ưu điểm là nhanh hơn và ít phức tạp hơn. Việc chuẩn bị mẫu cho XRF phụ thuộc vào loại mẫu và có thể bao gồm nghiền, ép viên hoặc hòa tan.

    Cường độ của tín hiệu XRF tỷ lệ với nồng độ của nguyên tố trong mẫu, cho phép phân tích định lượng. Tuy nhiên, cần phải hiệu chỉnh các hiệu ứng nền như tán xạ Rayleigh và Compton. XRF được ứng dụng rộng rãi trong nhiều lĩnh vực, từ kiểm soát chất lượng công nghiệp đến nghiên cứu môi trường và khảo cổ học, nhờ khả năng phân tích nhanh chóng, không phá hủy và khả năng phân tích nhiều loại mẫu. Tuy nhiên, cần lưu ý rằng XRF có giới hạn phát hiện khác nhau cho các nguyên tố khác nhau và thường kém nhạy hơn các kỹ thuật như ICP-MS. Nó cũng gặp khó khăn trong việc phân tích các nguyên tố nhẹ (Z &lt; 11).

    Tài liệu tham khảo

    • Bertin, E. P. (1978). Introduction to X-ray spectrometric analysis. Springer Science &amp; Business Media.
    • Jenkins, R. (1995). X-ray fluorescence spectrometry. John Wiley &amp; Sons.
    • Van Grieken, R. E., &amp; Markowicz, A. A. (2002). Handbook of X-ray spectrometry. Marcel Dekker.
    • Beckhoff, B., Kanngießer, B., Langhoff, N., Wedell, R., &amp; Wolff, H. (2006). Handbook of practical X-ray fluorescence analysis. Springer Science &amp; Business Media.

    Câu hỏi và Giải đáp

    Hiệu ứng ma trận là gì và nó ảnh hưởng như thế nào đến kết quả phân tích XRF?

    Trả lời: Hiệu ứng ma trận đề cập đến sự ảnh hưởng của thành phần tổng thể của mẫu lên cường độ tia X huỳnh quang phát ra từ một nguyên tố cụ thể. Các nguyên tố khác trong mẫu có thể hấp thụ hoặc tăng cường tia X huỳnh quang từ nguyên tố mục tiêu. Ví dụ, trong một mẫu chứa cả sắt (Fe) và niken (Ni), tia X huỳnh quang từ Fe có thể bị hấp thụ bởi Ni, dẫn đến kết quả đo nồng độ Fe thấp hơn thực tế. Để khắc phục hiệu ứng ma trận, cần sử dụng các phương pháp hiệu chỉnh như phương pháp tiêu chuẩn nội, phương pháp pha loãng và các phương pháp cơ bản tham số (FP).

    Sự khác biệt chính giữa EDXRF và WDXRF là gì và khi nào nên sử dụng từng loại?

    Trả lời: Sự khác biệt chính nằm ở cách chúng phân tách và đo tia X huỳnh quang. EDXRF sử dụng detector bán dẫn để đo năng lượng của tất cả tia X huỳnh quang cùng một lúc, trong khi WDXRF sử dụng tinh thể phân tích để phân tách tia X theo bước sóng trước khi đo cường độ. WDXRF cho độ phân giải năng lượng tốt hơn, phù hợp cho phân tích định lượng chính xác và phát hiện các nguyên tố vết ở nồng độ thấp. EDXRF thì nhanh hơn, đơn giản hơn và ít tốn kém hơn, phù hợp cho phân tích định tính và bán định lượng.

    Giới hạn phát hiện (LOD) trong XRF bị ảnh hưởng bởi những yếu tố nào?

    Trả lời: LOD, nồng độ thấp nhất của một nguyên tố có thể được phát hiện một cách đáng tin cậy, bị ảnh hưởng bởi nhiều yếu tố, bao gồm: thời gian đo, hiệu ứng nền (tán xạ Rayleigh và Compton), hiệu ứng ma trận, loại detector, công suất nguồn tia X, và sự chuẩn bị mẫu. Tăng thời gian đo có thể cải thiện LOD, nhưng đến một giới hạn nhất định.

    Tại sao XRF được coi là kỹ thuật phân tích “không phá hủy”?

    Trả lời: XRF được coi là không phá hủy vì trong hầu hết các trường hợp, mẫu không bị thay đổi về mặt vật lý hoặc hóa học trong quá trình phân tích. Tia X tương tác với mẫu ở mức độ nguyên tử và không gây ra phản ứng hóa học hay thay đổi cấu trúc đáng kể. Điều này cho phép mẫu được sử dụng cho các phân tích tiếp theo bằng các kỹ thuật khác. Tuy nhiên, một số trường hợp đặc biệt, ví dụ như mẫu nhạy cảm với nhiệt độ cao do tiếp xúc với chùm tia X cường độ cao trong thời gian dài, có thể gây ra một số thay đổi nhỏ.

    Làm thế nào để hiệu chuẩn thiết bị XRF cho phân tích định lượng?

    Trả lời: Hiệu chuẩn thiết bị XRF cho phân tích định lượng thường được thực hiện bằng cách sử dụng các mẫu chuẩn có nồng độ đã biết của các nguyên tố cần phân tích. Đường chuẩn được xây dựng bằng cách đo cường độ tia X huỳnh quang của các mẫu chuẩn và vẽ biểu đồ cường độ theo nồng độ. Nồng độ của nguyên tố trong mẫu chưa biết sau đó được xác định bằng cách so sánh cường độ tín hiệu của nó với đường chuẩn đã được thiết lập. Các phương pháp hiệu chuẩn khác bao gồm phương pháp cơ bản tham số (FP), không yêu cầu mẫu chuẩn nhưng đòi hỏi phần mềm phức tạp hơn.

    Một số điều thú vị về Phân tích huỳnh quang tia X

    • Tia X được phát hiện tình cờ: Nhà vật lý người Đức Wilhelm Conrad Röntgen đã phát hiện ra tia X vào năm 1895 trong khi đang thực hiện các thí nghiệm với ống tia cathode. Ông gọi chúng là “tia X” vì bản chất bí ẩn của chúng lúc bấy giờ. Phát hiện này đã mang lại cho ông giải Nobel Vật lý đầu tiên vào năm 1901.
    • XRF có thể được sử dụng để phân tích các tác phẩm nghệ thuật mà không làm hỏng chúng: Các nhà bảo tồn nghệ thuật sử dụng XRF để xác định các sắc tố được sử dụng trong tranh, giúp xác định niên đại, tính xác thực và kỹ thuật của họa sĩ. Ví dụ, việc phát hiện ra sắc tố Prussian blue trong một bức tranh được cho là từ thế kỷ 16 sẽ đặt ra nghi vấn về tính xác thực của nó, vì sắc tố này chỉ được phát minh vào thế kỷ 18.
    • XRF được sử dụng trên sao Hỏa: Robot thăm dò Curiosity và Perseverance của NASA đều được trang bị thiết bị XRF để phân tích thành phần đất đá trên sao Hỏa, giúp các nhà khoa học tìm hiểu thêm về lịch sử địa chất và khả năng tồn tại sự sống của hành tinh đỏ.
    • XRF có thể phân tích mẫu ở nhiều trạng thái khác nhau: Không giống như nhiều kỹ thuật phân tích khác, XRF có thể phân tích mẫu ở dạng rắn, lỏng, bột, và thậm chí cả màng mỏng mà không cần phải chuẩn bị mẫu quá phức tạp. Điều này làm cho XRF trở thành một kỹ thuật rất linh hoạt.
    • XRF giúp tìm ra chì trong đồ chơi trẻ em: XRF đóng vai trò quan trọng trong việc kiểm soát chất lượng đồ chơi trẻ em. Nó có thể nhanh chóng phát hiện sự hiện diện của chì và các kim loại nặng độc hại khác trong sơn và vật liệu đồ chơi, đảm bảo an toàn cho trẻ em.
    • Phân tích XRF có thể được thực hiện tại chỗ: Các thiết bị XRF cầm tay cho phép phân tích tại hiện trường, hữu ích cho các ứng dụng như khai thác mỏ, khảo cổ học và kiểm tra môi trường. Việc phân tích ngay tại chỗ giúp tiết kiệm thời gian và chi phí vận chuyển mẫu đến phòng thí nghiệm.

    Những sự thật này cho thấy tính linh hoạt và tầm quan trọng của XRF trong nhiều lĩnh vực khác nhau, từ nghiên cứu khoa học đến đời sống hàng ngày.

    Nội dung được thẩm định bởi Công ty Cổ phần KH&CN Trí Tuệ Việt

    P.5-8, Tầng 12, Tòa nhà Copac Square, 12 Tôn Đản, Quận 4, TP HCM.

    PN: (+84).081.746.9527
    [email protected]

    Ban biên tập: 
    GS.TS. Nguyễn Lương Vũ
    GS.TS. Nguyễn Minh Phước
    GS.TS. Hà Anh Thông
    GS.TS. Nguyễn Trung Vĩnh

    PGS.TS. Lê Đình An

    PGS.TS. Hồ Bảo Quốc
    PGS.TS. Lê Hoàng Trúc Duy
    PGS.TS. Nguyễn Chu Gia
    PGS.TS. Lương Minh Cang
    TS. Nguyễn Văn Hồ
    TS. Phạm Kiều Trinh

    TS. Ngô Văn Bản
    TS. Kiều Hà Minh Nhật
    TS. Chu Phước An
    ThS. Nguyễn Đình Kiên

    CN. Lê Hoàng Việt
    CN. Phạm Hạnh Nhi

    Bản quyền thuộc về Công ty cổ phần Trí Tuệ Việt